基本情况

姓         名

殷桂琴

性       别

女

 出 生 日 期 

1974年5月

党       派

无

职         称

副教授

职       务

无

研 究 方 向 

凝聚态物理

籍       贯

河南周口

工 作 单 位

西北师范大学物理与电子工程学院

地       址

兰州市安宁东路967号

电         话

13893128038

电         邮

yinguiq@126.com

教育背景及主要工作经历

学习经历：

1997年本科毕业于新疆大学.2002年-2005年考入新疆大学攻读硕士学位,2005年-2008年考入苏州大学攻读博士学位.2008年-2010年入职四川理工学院任教，2010年7月入职西北师范大学任教。

研究工作简历：

1、在攻读硕士研究生期间，主要从事碱金属分子激发态激光光谱方面的研究。

2、在攻读博士学位期间，主要从事利用旋转涂敷工艺制备低介电常数材料，并利用低温等离子体处理低介电薄膜材料的研究。

行政和社会兼职工作

个人荣誉

教学工作

近年来主要承担《理论力学》，《FORTRAN95程序设计》，《大学物理》，《电动力学》等的教学工作。

科研项目

承担的科学基金资助项目：

1. 主持西北师范大学青年教师科研能力提升计划骨干项目,项目批准号：NWNU-LKQN-11-9，已结题。

2. 主持国家自然科学基金项目，项目批准号：11665021，执行期限：2017.01-2020.12。

3. 参与国家自然科学基金项目，项目批准号：11165012，排名第二，已结题。

获奖情况

发表论文目录

1. Guiqin Yin, Qianghua Yuan, , Zhaoyuan Ning, Synthesis and structure characterization of low dielectric constant MSQ films by using octamethyl cyclotetrasiloxane (D4) as a porosity promotion agent，Vacuum . 2013, 96, 59

2. Guiqin Yin, Qianghua Yuan, Zhaoyuan Ning, Repairing oxygen plasma-damaged on low dielectric constant MSQ (methylsilsesquioxane) films with anneal, Journal of Electroceramics. 2012, 28 (1), 70

3. Guiqin Yin, Zhaoyuan Ning, Qianghua Yuan, Chao Ye, and Yu Xin, Structure Characterization of HSQ Films for Low Dielectrics Uses D4 as Sacrificial Porous Materials, J. Am. Ceram. Soc. 2007, 90(6), 1943

4. YIN Gui-Qin, NING Zhao-Yuan, YUAN Qiang-Hua, Structure Characterization of HSQ Films for Low Dielectrics Using D5 as Sacrificial Porous Materials, Chin. Phys. Lett. 2007, 24 (12), 3532

5. 殷桂琴，袁强华，旋转涂覆法制备硅基多孔低k薄膜材料的研究进展，材料导报, 2010, 24(4)，40

6. Q. H. Yuan, G. Q. Yin(correspondent author), Z. Y. Ning, Effect of oxygen plasma treatment on low dielectric constant HSQ (hydrogensilsesquioxane) films, Plasma Sci. Technol. Vol.15, No.1, Jan. 2013

7. Q. H. Yuan, G. Q. Yin, Y. Xin, Z. Y. Ning, Effects of gas pressure on 60/13.56 MHz dual-frequency capacitively coupled plasmas, Phys. Plasmas. 2011 18 (5) 053501

8. Q. H. Yuan, Y. Xin, G. Q. Yin, X. J. Huang, K. Sun, Z. Y. Ning, Effect of Low-frequency Power on Dual-frequency Capacitively Coupled Plasmas, J. Phys. D: Appl. Phys. 2008 41 (20) 205209

9. Q. H. Yuan, C. Ye, Y. Xin, X. J. Huang, Z. Y. Ning, and G. Q. Yin, Control of the discharge chemistry of CHF₃ in dual-frequency capacitively coupled plasmas, Appl. Phys. Lett. 2008，93(7), 071503